雙休，五險一金，法定節假日，餐補，出差補

儀器簡介：儀器裝備有 Mg / Al 雙陽極 X 射線源， AI 靶單色化的 X 射線源，LB6燈絲電子槍，離子槍，電荷中和系統， XYZq 四維方向運動帶變溫樣品臺（-150℃~600℃), CCD 成像系統等。

主要功能：利用 X 射線光電子能譜術（ XPS ）或俄歇譜能術（ AES ）定量分析材料的組分及其組成元素的化學狀態。該二合一分析儀器通過對樣品同一區域的收譜和成像，反映其表面層的組分及其分布以及組分在表面以下隨深度的變化。XPS 可進行表面層（深度1-3 nm )的大面積（0.8x2mm）或選區（最小選區15μ m ）組分分析，其成像 XPS 的空間分辨率＜3um; AES 的表面層分析深度更淺，為0.5-2.5nm。

應用領域：廣泛應用于聚合物、無機化合物、有機化合物、催化劑、涂層材料、納米材料礦石等各種材料的組成元素及其化學狀態的分析，以及材料的組成元素及其化學狀態隨溫度的變化過程等研究。